Temperature dependence of the surface reactivity of SiH3 on plasma deposited a-Si:H : a time resolved cavity ringdown study

  • Y. Barrell

Scriptie/Masterproef: Master

Datum prijs31 dec. 2002
Originele taalEngels
BegeleiderM.C.M. (Richard) van de Sanden (Afstudeerdocent 1), Johan P.M. Hoefnagels (Afstudeerdocent 2) & W.M.M. (Erwin) Kessels (Afstudeerdocent 2)

Citeer dit

'