On the influence of ICP-PECVD deposition parameters and annealing on the properties of a-Si:H passivation layers

Scriptie/masterproef: Bachelor

Uittreksel

Datum Prijs2014
TaalEngels
BegeleiderBart Macco (Afstudeerdocent 1) & W.M.M. (Erwin) Kessels (Afstudeerdocent 2)

Citeer dit

On the influence of ICP-PECVD deposition parameters and annealing on the properties of a-Si:H passivation layers
Arts, K. (Auteur). 2014

Scriptie/masterproef: Bachelor