Deposition and etching in inductively coupled fluorocarbon plasmas

  • T.E.F.M. Standaert

Scriptie/Masterproef: Master

Samenvatting

Datum prijs31 dec 1996
Originele taalEngels
BegeleiderDaan C. Schram (Afstudeerdocent 1), M.C.M. (Richard) van de Sanden (Afstudeerdocent 2) & G.S. Oehrlein (Externe coach)

Citeer dit

'