Characterisation of an inductively coupled plasma source for silicon nitride deposition

  • B.J. Kniknie

Scriptie/Masterproef: Master

Datum prijs31 aug. 2005
Originele taalEngels
BegeleiderM.C.M. (Richard) van de Sanden (Afstudeerdocent 1), W.M.M. (Erwin) Kessels (Afstudeerdocent 2) & Roeland C.M. Bosch (Externe coach)

Citeer dit

Documenten

  • full text

    Bestand: application/pdf, 29,1 MB

    Type: Scriptie

'