Cavity ringdown study of the densities and kinetics of SiHx radicals in a remote SiH4 plasma

Scriptie/Masterproef: Master

Datum prijs31 aug. 2000
Originele taalEngels
BegeleiderW.M.M. (Erwin) Kessels (Afstudeerdocent 1), Maarten G.H. Boogaarts (Afstudeerdocent 2), M.C.M. (Richard) van de Sanden (Afstudeerdocent 2) & Daan C. Schram (Afstudeerdocent 2)

Citeer dit

Documenten

  • full text

    Bestand: application/pdf, 3,11 MB

    Type: Scriptie

'