| Datum prijs | jul. 2022 |
|---|---|
| Originele taal | Engels |
| Begeleider | Adrie J.M. Mackus (Afstudeerdocent 1) & Nicholas Chittock (Afstudeerdocent 2) |
Anisotropic plasma atomic layer etching of Al2O3 and HfO2 using SF6 and Ar plasma
Scriptie/Masterproef: Master