Tuning the cloud point of methacrylic acid and oligoethyleneglycol methacrylate based random copolymers

C.R. Becer, R. Hoogenboom, S. Hahn, U.S. Schubert

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademic

Samenvatting

Well-defined copolymers based on methacrylic acid and low-mol.-wt. polyethylene glycol methacrylate Me ether were prepd. via RAFT polymn. It was possible to tune the cloud point of the polymers simply by chaning the content of the two monomers in the copolymer. [on SciFinder (R)]
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)1095-1096
TijdschriftPolymer Preprints
Volume49
Nummer van het tijdschrift1
StatusGepubliceerd - 2008

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's van 'Tuning the cloud point of methacrylic acid and oligoethyleneglycol methacrylate based random copolymers'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit