Synergistic etch rates during low-energetic plasma etching for hydrogenated amorphous carbon

T.A.R. Hansen, J.W. Weber, P.G.J. Colsters, D.M.H.G. Mestrom, M.C.M. Sanden, van de, R.A.H. Engeln

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

12 Citaten (Scopus)
222 Downloads (Pure)

Samenvatting

The etch mechanisms of hydrogenated amorphous carbon thin films in low-energetic (
Originele taal-2Engels
Artikelnummer013302
Pagina's (van-tot)013302-1/12
Aantal pagina's12
TijdschriftJournal of Applied Physics
Volume112
Nummer van het tijdschrift1
DOI's
StatusGepubliceerd - 2012

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Synergistic etch rates during low-energetic plasma etching for hydrogenated amorphous carbon'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit