Surface characterization of SiO2 layers deposited using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP PECVD)

P.A. Premkumar, S.A. Starostin, H. Vries, de, R.M.J. Paffen

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Samenvatting

No abstract
Originele taal-2Engels
TitelProceedings of ICTF14 & RSD2008 : Ghent, Belgium, 17-20 November 2008
RedacteurenR. De Gryse, D. Depla, D. Poelman, S. Mathieu, W.P. Leroy, H. Poelman
Plaats van productieGhent
Pagina's344-344
StatusGepubliceerd - 2008
Evenementconference; International Conference on Thin Films (ICTF), Ghent Reactive Sputter Deposition Symposium (RSD); 2008-11-17; 2008-11-20 -
Duur: 17 nov 200820 nov 2008

Congres

Congresconference; International Conference on Thin Films (ICTF), Ghent Reactive Sputter Deposition Symposium (RSD); 2008-11-17; 2008-11-20
Periode17/11/0820/11/08
AnderInternational Conference on Thin Films (ICTF), Ghent Reactive Sputter Deposition Symposium (RSD)

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Surface characterization of SiO2 layers deposited using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP PECVD)'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit