Originele taal-2 | Engels |
---|---|
Pagina's (van-tot) | 1-2 |
Aantal pagina's | 2 |
Tijdschrift | Plasma Chemistry and Plasma Processing |
Volume | 36 |
Nummer van het tijdschrift | 1 |
DOI's | |
Status | Gepubliceerd - 1 jan. 2016 |
Special Issue of Papers by Plenary and Topical Invited Lecturers at the 22nd International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 22), 5–10 July 2015, Antwerp, Belgium: Introduction
Annemie Bogaerts, Richard van de Sanden
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Editorial › Academic › peer review
1
Citaat
(Scopus)