Silicon etching in hydrogen bromide reactive ion etching plasmas

T.D. Bestwick, G.S. Oehrlein, G.M.W. Kroesen, F. Cardone, G.J. Scilla

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)285-292
Aantal pagina's8
TijdschriftProceedings - Electrochemical Society
Volume90-14
Nummer van het tijdschriftProc. Symp
StatusGepubliceerd - 1990

Citeer dit