Second harmonic generation in fundamental plasma-processing studies: Si etching

A.A.E. Stevens, J.J.H. Gielis, P.M. Gevers, H.C.W. Beijerinck, W.M.M. Kessels

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Originele taal-2Engels
TitelWetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie; Veldhoven, The Netherlands, 14-15 December, 2004
Plaats van productieVeldhoven, The Netherlands
StatusGepubliceerd - 2004
Evenementconference; Wetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie; 2004-12-14; 2004-12-15 -
Duur: 14 dec. 200415 dec. 2004

Congres

Congresconference; Wetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie; 2004-12-14; 2004-12-15
Periode14/12/0415/12/04
AnderWetenschappelijke FOM-dagen Gecondenseerde Materie

Citeer dit