Roughness evolution of high-rate deposited a-SiNx:H films studied by atomic force microscopy and real time spectroscopic ellipsometry

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Originele taal-2Engels
TitelAmorphous and nanocrystalline silicon science and technology
RedacteurenJ.R. Abelson
Plaats van productieWarrendale, Pa
UitgeverijMaterials Research Society
Pagina's233-238
ISBN van geprinte versie1-558-99758-X
StatusGepubliceerd - 2004
EvenementAmorphous and Nanocrystalline Silicon Science and Technology - San Francisco, Verenigde Staten van Amerika
Duur: 13 apr 200416 apr 2004

Publicatie series

NaamMaterials Research Society Symposium Proceedings
Volume808
ISSN van geprinte versie0272-9172

Congres

CongresAmorphous and Nanocrystalline Silicon Science and Technology
Land/RegioVerenigde Staten van Amerika
StadSan Francisco
Periode13/04/0416/04/04
AnderMRS spring meeting ; (San Francisco, Calif.) : 2004.04.13-16

Citeer dit