Samenvatting
no abstract
| Originele taal-2 | Engels |
|---|---|
| Pagina's (van-tot) | 278-278 |
| Tijdschrift | Journal of Colloid and Interface Science |
| Volume | 242 |
| Nummer van het tijdschrift | 1 |
| DOI's | |
| Status | Gepubliceerd - 1 okt. 2001 |
Response to Comments by M. Kosmulski on “The Electroviscous Behavior of Dispersions of Amorphous Silica (Ludox) in KCl Solutions” by J. Laven and H. N. Stein
J. Laven, H.N. Stein
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
1
Citaat
(Scopus)
1
Downloads
(Pure)