Remote plasma-enhanced metalorganic chemical vapor deposition of aluminum oxide thin films

I. Volintiru, M. Creatore, J.L. Hemmen, van, M.C.M. Sanden, van de

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

8 Citaten (Scopus)

Samenvatting

Aluminum oxide films were deposited using remote plasma-enhanced metalorganic chemical vapor deposition from oxygen/trimethylaluminum mixtures. Initial studies by in situ spectroscopic ellipsometry demonstrated that the aluminum oxide films deposited at temperatures
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)645-652
Aantal pagina's8
TijdschriftPlasma Processes and Polymers
Volume5
Nummer van het tijdschrift7
DOI's
StatusGepubliceerd - 2008

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Remote plasma-enhanced metalorganic chemical vapor deposition of aluminum oxide thin films'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit