Reduced chemical model in microwave induced plasmas for the purpose of deposition

E.H. Kemaneci, J. Dijk, van, J.J.A.M. Mullen, van der

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan congresPoster

2 Downloads (Pure)

Samenvatting

No abstract.
Originele taal-2Engels
Pagina'sB16-
StatusGepubliceerd - 2011

Bibliografische nota

Poster presented at the 23th NNV-Symposium Plasma Physics & Radiation Technology, 15-16 March 2011, Lunteren, The Netherlands

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's van 'Reduced chemical model in microwave induced plasmas for the purpose of deposition'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit