Reduced chemical model in microwave induced plasmas for the purpose of deposition

E.H. Kemaneci, J. Dijk, van, J.J.A.M. Mullen, van der

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan congresPosterAcademic

2 Downloads (Pure)

Samenvatting

No abstract.
Originele taal-2Engels
Pagina'sB16-
StatusGepubliceerd - 2011

    Vingerafdruk

Bibliografische nota

Poster presented at the 23th NNV-Symposium Plasma Physics & Radiation Technology, 15-16 March 2011, Lunteren, The Netherlands

Citeer dit