Recombination reduction at the c-Si/RCA oxide interface through Ar-H2 plasma treatment

K. Landheer, P.C.P. Bronsveld, I. Poulios, F.D. Tichelaar, M. Kaiser, R.E.I. Schropp, J.K. Rath

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftCommunicatieAcademicpeer review

1 Citaat (Scopus)

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Recombination reduction at the c-Si/RCA oxide interface through Ar-H<sub>2</sub> plasma treatment'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Chemische stoffen

Engineering en materiaalwetenschappen

Fysica en Astronomie