Radical and ion formation in an expanding thermal plasma used for thin film deposition

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan congresOtherAcademic

Originele taal-2Engels
StatusGepubliceerd - 2005
Evenementconference; University Köln; 2005-01-20; 2005-01-20 -
Duur: 20 jan. 200520 jan. 2005

Congres

Congresconference; University Köln; 2005-01-20; 2005-01-20
Periode20/01/0520/01/05
AnderUniversity Köln

Citeer dit