Radical and ion formation in an expanding thermal plasma used for thin film deposition

M.C.M. Sanden, van de

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan congres › Other › Academic

Originele taal-2Engels
StatusGepubliceerd - 2005
Evenementconference; Aston University; 2005-04-28; 2005-04-28 -
Duur: 28 apr. 2005 → 28 apr. 2005

Congres

Congresconference; Aston University; 2005-04-28; 2005-04-28
Periode28/04/05 → 28/04/05
AnderAston University

Citeer dit