Preface: atomic layer deposition application 13

F. Roozeboom, Stefan de Gendt, Jeffrey W. Elam, O. van der Straten, J. Dendooven, C. Liu

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftEditorialAcademicpeer review

Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)III-IV
Aantal pagina's2
TijdschriftECS Transactions
Volume80
Nummer van het tijdschrift3
StatusGepubliceerd - 1 okt 2017

Citeer dit