Preface : Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 4 : new materials, processes and equipment

P.J. Timans, D.-L. Kwong, H. Iwai, E.P. Gusev, F. Roozeboom, M. Öztürk

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftEditorialAcademic

35 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)III-
Aantal pagina's1
TijdschriftECS Transactions
Volume13
Nummer van het tijdschrift1
StatusGepubliceerd - 2008

Citeer dit