Plasma-surface interaction during the growth of silicon and carbon thin films: in situ plasma and surface studies

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan congresOtherAcademic

Originele taal-2Engels
StatusGepubliceerd - 2009
Evenementconference; Institut für Energieforschung – Plasmaphysik; 2009-01-23; 2009-01-23 -
Duur: 23 jan. 200923 jan. 2009

Congres

Congresconference; Institut für Energieforschung – Plasmaphysik; 2009-01-23; 2009-01-23
Periode23/01/0923/01/09
AnderInstitut für Energieforschung – Plasmaphysik

Citeer dit