Plasma-assisted Atomic Layer Deposition: High-volume manufacturing and new opportunities in research

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

44 Downloads (Pure)

Samenvatting

The usage of plasma as a reactant in atomic layer deposition processes started out as a niche process but in the meantime had its breakthrough in high-volume manufacturing in nano-electronics.
Understanding the processes in plasma ALD is challenging but the knowledge in the Netherlands on plasma science, surface science and the ALD end-applications are a perfect foundation for a globally leading position in this field.
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)10-13
TijdschriftNevac Blad
Volume58
Nummer van het tijdschrift2
StatusGepubliceerd - 2 jun. 2020

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Plasma-assisted Atomic Layer Deposition: High-volume manufacturing and new opportunities in research'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit