Optimization of IR heater shapes for mirror temperature control in wafer scanners

Daniël W.M. Veldman, S.A.N. Nouwens, Rob H.B. Fey, Hans J. Zwart, Marc M.J. van de Wal, J.D.B.J. van den Boom, Henk Nijmeijer

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan congresPosterAcademic

22 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
StatusGepubliceerd - 22 okt 2019
Evenement22nd Engineering Mechanics Symposium - Arnhem, Nederland
Duur: 22 okt 201923 okt 2019

Congres

Congres22nd Engineering Mechanics Symposium
LandNederland
StadArnhem
Periode22/10/1923/10/19

Citeer dit