On the effect of substrate temperature on a-Si:H deposition using an expanding thermal plasma

R.J. Severens, M.C.M. Sanden, van de, H.J.M. Verhoeven, J. Bastiaanssen, D.C. Schram

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

81 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
TitelPlasmatechnologie: 7. Bundesdeutsche Fachtagung, 13.-14. Maerz 1996, Rub-Bochum
Pagina's106
StatusGepubliceerd - 1996

Citeer dit