New surface diagnostics for in situ detection of hydrogen and dangling bonds on plasma deposited silicon films

W.M.M. Kessels, I.M.P. Aarts, J.P.M. Hoefnagels, P.J. Oever, van den, B. Hoex, J.J.H. Gielis, E. Langereis, R.A.H. Engeln, M.C.M. Sanden, van de

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Originele taal-2Engels
TitelFrontiers in low temperature plasma diagnostics V : Villaggio Cardigliano Specchia (LE) - Italy, April 3-7, 2003 : papers
Pagina's40-49
StatusGepubliceerd - 2003

Citeer dit