New patterning paradigm? : selective deposition may be the way forward to the far reaches of device scaling after 7nm.

M. Lapedus, W.M.M. Kessels

Onderzoeksoutput: Niet-tekstuele vorm › Web publicatie / site › Professioneel

434 Downloads (Pure)

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'New patterning paradigm? : selective deposition may be the way forward to the far reaches of device scaling after 7nm.'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Engineering

Earth and Planetary Sciences

Material Science