Nanopattering by direct-write atomic layer deposition

A.J.M. Mackus, S.A.F. Dielissen, J.J.L. Mulders, W.M.M. Kessels

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

65 Citaten (Scopus)
6 Downloads (Pure)


A novel direct-write approach is presented, which relies on area-selective atomic layer deposition on seed layer patterns deposited by electron beam induced deposition. The method enables the nanopatterning of high-quality material with a lateral resolution of only 10 nm. Direct-write ALD is a viable alternative to lithography-based patterning with a better compatibility with sensitive nanomaterials.
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)4477-4480
Aantal pagina's4
TijdschriftSpecial Publication - Royal Society of Chemistry
Nummer van het tijdschrift15
StatusGepubliceerd - 2012


Duik in de onderzoeksthema's van 'Nanopattering by direct-write atomic layer deposition'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit