Molecular processes in Ar-H2 expanding thermal plasma

R.P. Dahiya, H. Kishan, M.C.M. Sanden, van de, D.C. Schram

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Originele taal-2Engels
TitelProceedings of the 13th International Symposium on Plasma Chemistry II, Beijing, China, 18-22 augustus, 1997
RedacteurenC.K. Wu
Plaats van productieBeijing, China
UitgeverijPeking University Press
Pagina's541-545
ISBN van geprinte versie7-301-03483-0
StatusGepubliceerd - 1997
Evenement13th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 13), August 18-22, 1997, Beijing, China - Beijing, China
Duur: 18 aug. 199722 aug. 1997

Congres

Congres13th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 13), August 18-22, 1997, Beijing, China
Verkorte titelISPC 13
Land/RegioChina
StadBeijing
Periode18/08/9722/08/97
Ander13th International Symposium on Plasma Chemistry, Beijing, China, 18-22 August, 1997

Citeer dit