Metal–organic covalent network chemical vapor deposition for gas separation

N.D. Boscher, M. Wang, A. Perrotta, K. Heinze, A. Creatore, K.K. Gleason

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

24 Citaten (Scopus)

Samenvatting

The chemical vapor deposition (CVD) polymerization of metalloporphyrin building units is demonstrated to provide an easily up-scalable one-step method toward the deposition of a new class of dense and defect-free metal–organic covalent network (MOCN) layers. The resulting hyper-thin and flexible MOCN layers exhibit outstanding gas-separation performances for multiple gas pairs.
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)7479-7485
Aantal pagina's7
TijdschriftAdvanced Materials
Volume28
Nummer van het tijdschrift34
DOI's
StatusGepubliceerd - 14 sep 2016

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's van 'Metal–organic covalent network chemical vapor deposition for gas separation'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit