Mechanism and kinetics of silylation of resist layers from the gas phase

R.J. Visser, J.P.W. Schellekens, M.E. Reuhman-Huisken, L.J. IJzendoorn, van

    Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

    44 Citaten (Scopus)
    Originele taal-2Engels
    TitelProceedings of the 4th Conference on Advances in Resist Technology and Processing, 2-3 March 1987, Santa Clara, California
    RedacteurenM.J. Bowden
    Plaats van productieBellingham
    UitgeverijSPIE
    Pagina's111-117
    ISBN van geprinte versie0-89252-806-0
    StatusGepubliceerd - 1987

    Publicatie series

    NaamProceedings of SPIE
    Volume771
    ISSN van geprinte versie0277-786X

    Citeer dit