Materials processing with the expanding thermal plasma technique using controlled ion flux and energy

P.M. Gevers, H.C.W. Beijerinck, M.C.M. Sanden, van de, W.M.M. Kessels

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Originele taal-2Engels
TitelPlasma Etch and Strip in Microelectronics 1st International Symposium (PESM), 10-11 September, 2007, Leuven, Belgium : Abstract Book
Plaats van productieS.l.
Uitgeverijs.n.
StatusGepubliceerd - 2007

Citeer dit