Vingerafdruk
Duik in de onderzoeksthema's van 'Isotropic plasma atomic layer etching of Al2O3 using a fluorine containing plasma and Al(CH3)3'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.- Sorteer per
- Gewicht
- Alfabetische volgorde
Isotropic plasma atomic layer etching of Al2O3 using a fluorine containing plasma and Al(CH3)3
Nicholas Chittock, Martijn F.J. Vos, Tahsin Faraz, W.M.M. Kessels, Harm C.M. Knoops, Adriaan J.M. Mackus (Corresponding author)
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review
12
Citaten
(Scopus)
448
Downloads
(Pure)