Isotropic plasma atomic layer etching of Al2O3 using a fluorine containing plasma and Al(CH3)3

Nicholas Chittock, Martijn F.J. Vos, Tahsin Faraz, W.M.M. Kessels, Harm C.M. Knoops, Adriaan J.M. Mackus (Corresponding author)

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

12 Citaten (Scopus)
448 Downloads (Pure)

Zoekresultaten