In-situ ellipsometry during the reactive ion etching of SiGe alloys

G.M.W. Kroesen, G.S. Oehrlein, E. Frésart, de

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Originele taal-2Engels
TitelComptes rendus des travaux du 8e colloque international sur les procedes plama, 10-14 juin, 1991, Antibes, Juan-les-Pins, France
Plaats van productieParis
UitgeverijSociété Française du Vide
Pagina's119-120
StatusGepubliceerd - 1991

Publicatie series

NaamLe vide, les couches minces
Volumesuppl. 256

Citeer dit