High-speed spatial atomic-layer deposition of aluminium oxide layers for solar cell passivation

P. Poodt, A. Lankhorst, F. Roozeboom, K. Spee, D. Maas, Ad Vermeer

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

254 Citaten (Scopus)
1 Downloads (Pure)

Samenvatting

Al2O3 thin films deposited at rates as high as 1.2 nm s-1 using spatially separated atomic layer deposition show excellent solar cell surface passivation properties, i.e., recombination velocities of
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)3564-3567
TijdschriftAdvanced Materials
Volume22
Nummer van het tijdschrift32
DOI's
StatusGepubliceerd - 2010

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'High-speed spatial atomic-layer deposition of aluminium oxide layers for solar cell passivation'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit