High rate remote plasma deposition of a-C:H radical chemistry vs. ion energy

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Originele taal-2Engels
TitelISSP 2011 : the eleventh international symposium on sputtering & plasma processes : July 6-8, 2011, Kyoto, Japan
Pagina's15-
StatusGepubliceerd - 2011

Citeer dit