Doorgaan naar hoofdnavigatie Doorgaan naar zoeken Ga verder naar hoofdinhoud

High rate deposition of a-Si:H utilizing a remote expanding plasma : first results on nip and pin cells

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Originele taal-2Engels
TitelEuregional workshop, 6th, 21-22 June 1999, Utrecht
Plaats van productieUtrecht
StatusGepubliceerd - 1999

Citeer dit