High-quality a-Si:H growth at high rate using an expanding thermal plasma

M.C.M. Sanden, van de, R.J. Severens, J. Bastiaanssen, D.C. Schram

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelAcademicpeer review

14 Citaten (Scopus)
31 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
Pagina's (van-tot)719-722
TijdschriftSurface and Coatings Technology
Volume97
DOI's
StatusGepubliceerd - 1997

Citeer dit