High capacitance density MOS capacitor stacks in 3D silicon using plasma-assisted ALD

D. Hoogeland, K.B. Jinesh, F. Roozeboom, W.F.A. Besling, W. Keuning, M.C.M. Sanden, van de, W.M.M. Kessels

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

2 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
TitelProceedings of the 8th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2008), June 29 - July 2008, Bruges, Belgium (Book of Abstracts)
RedacteurenW.M.M. Kessels, A. Delabie
Plaats van productieS.n.
Uitgeverijs.n.
Pagina'sP-35-
StatusGepubliceerd - 2008

Citeer dit