Growth and material properties of nanometer ruthenium films deposited by atomic layer deposition

N. Leick, R.O.F. Verkuijlen, E. Langereis, F. Roozeboom, M.C.M. Sanden, van de

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/Congresprocedure › Conferentiebijdrage › Academic

Originele taal-2	Engels
Titel	Physics@FOM Veldhoven, 19-20 January 2010, Veldhoven, The Netherlands
Redacteuren	M. Graef, de, G. Zegers, E. Min, F. Pavert, van de
Plaats van productie	Utrecht
Uitgeverij	Stichting FOM
Pagina's	P05.67-204
Status	Gepubliceerd - 2010

Citeer dit

@inproceedings{5b7cebd242d74dad98bdf774c6d1fed1,

title = "Growth and material properties of nanometer ruthenium films deposited by atomic layer deposition",

author = "N. Leick and R.O.F. Verkuijlen and E. Langereis and F. Roozeboom and {Sanden, van de}, M.C.M.",

year = "2010",

language = "English",

pages = "P05.67--204",

editor = "{Graef, de}, M. and G. Zegers and E. Min and {Pavert, van de}, F.",

booktitle = "Physics@FOM Veldhoven, 19-20 January 2010, Veldhoven, The Netherlands",

publisher = "Stichting FOM",

}

Growth and material properties of nanometer ruthenium films deposited by atomic layer deposition. / Leick, N.; Verkuijlen, R.O.F.; Langereis, E. et al.
Physics@FOM Veldhoven, 19-20 January 2010, Veldhoven, The Netherlands. redactie / M. Graef, de; G. Zegers; E. Min; F. Pavert, van de. Utrecht: Stichting FOM, 2010. blz. P05.67-204.

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/Congresprocedure › Conferentiebijdrage › Academic

TY - GEN

T1 - Growth and material properties of nanometer ruthenium films deposited by atomic layer deposition

AU - Leick, N.

AU - Verkuijlen, R.O.F.

AU - Langereis, E.

AU - Roozeboom, F.

AU - Sanden, van de, M.C.M.

PY - 2010

Y1 - 2010

M3 - Conference contribution

SP - P05.67-204

BT - Physics@FOM Veldhoven, 19-20 January 2010, Veldhoven, The Netherlands

A2 - Graef, de, M.

A2 - Zegers, G.

A2 - Min, E.

A2 - Pavert, van de, F.

PB - Stichting FOM

CY - Utrecht

ER -