(Fast) plasma deposition of amorphous and crystalline layers : a discussion of the physical mechanisms

J.J. Beulens, A.J.M. Buuron, G.J. Meeusen, M.C.M. Sanden, van de, D.C. Schram

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

1 Downloads (Pure)

Samenvatting

A review with 32 refs. is given on plasma deposition with an emphasis on surface processes. The plasma deposition the expanding thermal plasma beam is described. Also, applications of plasmas to Si etching is discussed. [on SciFinder (R)]
Originele taal-2Engels
TitelIndustrial applications of plasma physics : proceedings of the course and workshop held at Villa Monastero - Varenna, Italy, 2-11 September 1992
RedacteurenG. Bonizzoni, W. Hooke, E. Sindoni
Plaats van productieBologna
UitgeverijCompositori
Pagina's391-404
ISBN van geprinte versie88-7794-050-6
StatusGepubliceerd - 1993

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van '(Fast) plasma deposition of amorphous and crystalline layers : a discussion of the physical mechanisms'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Citeer dit