Fast deposition of device quality hydrogenated amorphous silicon by an expanding thermal plasma

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

2 Downloads (Pure)
Originele taal-2Engels
TitelProgress in Plasma Processing of Materials 1999, Proceedings of the 5th International Thermal Plasma Processesing Conference, St. Petersburg, Russia,
RedacteurenP. Fauchais, J. Amouroux
Plaats van productieNew York
UitgeverijBegell House Inc.
Pagina's869-875
ISBN van geprinte versie1-56700-126-2
StatusGepubliceerd - 1999

Citeer dit