Extremely small AWG demultiplexer fabricated on InP by using a double-etch process

Y. Barbarin, X.J.M. Leijtens, E.A.J.M. Bente, C.M. Louzao, J. Kooiman, M.K. Smit

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademicpeer review

Originele taal-2Engels
TitelIPR 2004, San Francisco, USA
Pagina'sIThG4-
StatusGepubliceerd - 2004
Evenementconference; IPR 2004; 2004-06-30; 2004-07-04 -
Duur: 30 jun 20044 jul 2004

Congres

Congresconference; IPR 2004; 2004-06-30; 2004-07-04
Periode30/06/044/07/04
AnderIPR 2004

Citeer dit