Excellent surface passivation by hydrogenated amorphous silicon deposited at rates >1 nm/s by the expanding thermal plasma technique

B. Hoex, W.M.M. Kessels, M.D. Bijker, M.C.M. Sanden, van de

Onderzoeksoutput: Hoofdstuk in Boek/Rapport/CongresprocedureConferentiebijdrageAcademic

Originele taal-2Engels
TitelProceedings 21st European Photovoltaic Solar Energy Conference, Dresden, Germany
Pagina's435-
StatusGepubliceerd - 2006

Citeer dit