Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2: Impact on the growth per cycle and wet etch rate

Karsten Arts, J.H. Deijkers, Tahsin Faraz, R.L. Puurunen, W.M.M. Kessels (Corresponding author), Harm C.M. Knoops (Corresponding author)

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

14 Citaten (Scopus)

288 Downloads (Pure)

14 Citaties
1 Rapport
1 Tijdschriftartikel

1 resultaten

Filter

2020
Evidence for Low-energy Ions Influencing Plasma-assisted Atomic Layer Deposition of SiO2: Impact on the Growth per Cycle and Wet Etch Rate
Kessels, W. M. M., 1 sep. 2020, In: ILTPC Newsletter. 6, 1 blz.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Professioneel

Open Access
Bestand
52 Downloads (Pure)