Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2: Impact on the growth per cycle and wet etch rate

Karsten Arts, J.H. Deijkers, Tahsin Faraz, R.L. Puurunen, W.M.M. Kessels (Corresponding author), Harm C.M. Knoops (Corresponding author)

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

14 Citaten (Scopus)

288 Downloads (Pure)

14 Citaties
1 Rapport
1 Tijdschriftartikel

2 resultaten

2020
Evidence for Low-energy Ions Influencing Plasma-assisted Atomic Layer Deposition of SiO2: Impact on the Growth per Cycle and Wet Etch Rate
Kessels, W. M. M., 1 sep. 2020, In: ILTPC Newsletter. 6, 1 blz.
Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Professioneel

Open Access
Bestand
52 Downloads (Pure)
Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2 as measured with Impedans' Quantum System: Application note [QC03]
Arts, K., Deijkers, J. H., Faraz, T., Puurunen, R. L., Kessels, W. M. M. & Knoops, H. C. M., aug. 2020, Impedans Plasma Measurement. 2 blz.
Onderzoeksoutput: Boek/rapport › Rapport › Academic

Open Access
Bestand

87 Downloads (Pure)