Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2: Impact on the growth per cycle and wet etch rate

Karsten Arts, J.H. Deijkers, Tahsin Faraz, R.L. Puurunen, W.M.M. Kessels (Corresponding author), Harm C.M. Knoops (Corresponding author)

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschrift › Tijdschriftartikel › Academic › peer review

14 Citaten (Scopus)
288 Downloads (Pure)

Vingerafdruk

Duik in de onderzoeksthema's van 'Evidence for low-energy ions influencing plasma-assisted atomic layer deposition of SiO2: Impact on the growth per cycle and wet etch rate'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

Material Science