Etching with atomic-level precision: The emerging field of atomic layer etching

Onderzoeksoutput: Bijdrage aan tijdschriftTijdschriftartikelPopulair

Samenvatting

Following the example of ALD, its etching counterpart atomic layer etching (ALE) is currently being implemented in the semiconductor industry for the fabrication of integrated circuits. ALE enables either anisotropic or isotropic etching with atomic-level precision based on sequential and self-limiting half-reactions. This article describes the basics of ALE and its main characteristics, and briefly reviews the
current status of the field. An outlook to future research is also provided.
Originele taal-2Engels
Artikelnummer2
Pagina's (van-tot)40-42
TijdschriftNevac Blad
Volume58
Nummer van het tijdschriftspecial on ALD
StatusGepubliceerd - 2 jun 2020

Vingerafdruk Duik in de onderzoeksthema's van 'Etching with atomic-level precision: The emerging field of atomic layer etching'. Samen vormen ze een unieke vingerafdruk.

  • Citeer dit