| Originele taal-2 | Engels |
|---|---|
| Plaats van productie | Oxford |
| Uitgeverij | Elsevier Advanced Technology |
| Aantal pagina's | 349 |
| ISBN van geprinte versie | 0-946395-84-5 |
| Status | Gepubliceerd - 1991 |
Citeer dit
- APA
- Author
- BIBTEX
- Harvard
- Standard
- RIS
- Vancouver
Etching of III-V semiconductors : an electrochemical approach
- P.H.L. Notten
- , J.E.A.M. Meerakker, van de
- , J.J. Kelly
Onderzoeksoutput: Boek/rapport › Boek › Academic